5月18日,河北晶馳機電有限公司(以下簡稱“晶馳機電”)在河北省舉行了首臺(套)12寸電阻法高純碳化硅晶體生長爐的交付儀式。據正定發布消息,這款設備采用電阻式物理氣相傳輸(PVT)方法,通過創新的結構與熱場設計,結合先進的過程控制理論和自動化技術,實現了徑向溫度的均勻分布和軸向溫度梯度的精準調控。其智能化運行能力顯著,可實現8英寸和12英寸碳化硅單晶的“一鍵切換”生產,極大提升了設備的靈活性和生產效率。
晶馳機電成立于2021年7月,總部和研發中心位于杭州市浙江大學杭州國際科創中心,專注于第三代和第四代半導體材料裝備的研發與生產。2024年年末,公司在河北石家莊建成了一座半導體材料研發生產基地,并于11月初正式投產。該項目總投資2億元,占地約50.26畝,總建筑面積約20000平方米,分兩期建設,主要聚焦金剛石設備與碳化硅外延設備的研發與生產。
據晶馳機電透露,此次交付的12英寸碳化硅晶體生長爐在性能上表現優異。相比傳統6英寸和8英寸襯底,12英寸碳化硅襯底材料顯著提升了單片晶圓的可用面積,不僅提高了芯片產量,還大幅降低了單位芯片制造成本。此外,該設備生產的晶錠形態優良,表面微凸度控制在2.4毫米以內,工藝穩定性高,操作便捷,適合產業化推廣。

圖源:正定發布

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