9月6日消息，尼康公司今日宣布，他們即將推出一款全新的i-line步進式光刻機，型號為“NSR-2205iL1”。預計該產(chǎn)品將在2024年夏季正式上市，為半導體制造業(yè)帶來更加先進的技術支持。GZE28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

據(jù)悉，這款全新的NSR-2205iL1步進式光刻機具備獨特的特點，最引人注目的是其5倍縮小的投影倍率。這一創(chuàng)新將使得該設備能夠在更小的尺寸范圍內(nèi)進行高精度的投影放大，從而支持多種領域的產(chǎn)品制造，包括功率半導體、通信半導體以及MEMS等。GZE28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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尼康公司表示，這款NSR-2205iL1光刻機在技術上與其現(xiàn)有的i-line曝光設備高度兼容，不僅能夠滿足客戶的多樣化需求，還將成為其近25年歷史中一次重大的技術更新。與現(xiàn)有的i-line曝光系統(tǒng)相比，NSR-2205iL1在經(jīng)濟性方面表現(xiàn)出色，無論晶圓材料的差異，都能夠為各種半導體器件的生產(chǎn)提供優(yōu)化的解決方案。GZE28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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隨著電動汽車、高速通信和各種IT設備的普及，半導體需求正呈指數(shù)級增長。尼康指出，這些半導體需要具備各種挑戰(zhàn)性的功能，因此，制造商需要專門的基板和曝光系統(tǒng)來生產(chǎn)這些芯片。新推出的NSR-2205iL1光刻機將在這一背景下發(fā)揮重要作用，不僅擴展了功能選項，以滿足不同客戶的需求，還將支持長期的設備生產(chǎn)。GZE28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

據(jù)ITBEAR科技資訊了解，NSR-2205iL1光刻機具備多項優(yōu)點，如多點自動對焦、先進的晶圓臺平整技術以及寬深度焦點范圍(DOF)等。這些特點使得該光刻機在高精度晶圓測量的基礎上，能夠為各種半導體制造過程提供高產(chǎn)率和優(yōu)化的產(chǎn)量水平。此外，該光刻機還具備晶圓厚度和尺寸的兼容性，高晶圓翹曲容忍度以及靈活的功能，例如支持SiC(碳化硅)和GaN(氮化鎵)加工。因此，NSR-2205iL1將以卓越的性價比，滿足不同芯片制造商的多樣化需求。GZE28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

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