韓國(guó)SK集團(tuán)旗下子公司SK Material Performance (SKMP)成功開(kāi)發(fā)出一款高厚度KrF光刻膠,并通過(guò)了SK海力士的性能驗(yàn)證。這款光刻膠的厚度為14~15微米,與東進(jìn)半導(dǎo)體向三星供應(yīng)的產(chǎn)品類似,而日本JSR公司的類似產(chǎn)品厚度僅為10微米。這種光刻膠對(duì)于提高3D NAND閃存工藝處理效率有很大幫助,但更高的厚度也意味著技術(shù)難度更高。
由于化學(xué)材料的粘性可能導(dǎo)致涂層表面不平整,東進(jìn)半導(dǎo)體目前仍是這類產(chǎn)品的唯一供應(yīng)商。然而,隨著SKMP加入競(jìng)爭(zhēng),SK海力士將能夠用這款KrF光刻膠生產(chǎn)238層3D NAND閃存。SKMP很可能取代日本JSR的主導(dǎo)地位,成為其主要的供應(yīng)商。
目前,SK海力士238層3D NAND閃存晶圓的月產(chǎn)能約為5000片,預(yù)計(jì)未來(lái)將進(jìn)一步提升產(chǎn)能,從而帶動(dòng)SKMP公司光刻膠的銷量。此外,SK海力士還展示了世界首款321層NAND閃存芯片樣品,預(yù)計(jì)產(chǎn)品將于2025年量產(chǎn)。
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