ictimes消息,近日,浙江芯秦微電子科技有限公司(以下簡稱芯秦微)完成了A+輪融資,本輪投資方為毅達資本。芯秦微此次融資將主要用于化學機械拋光液的產線建設和研發投入。
隨著全球晶圓產能的持續攀升,晶圓廠的投資擴產潮正在如火如荼地進行。各大知名企業在晶圓廠投資擴產方面動作頻頻,對于在晶圓生產過程中扮演重要角色的拋光液產品而言,其市場需求也將水漲船高。芯秦微作為拋光液領域的佼佼者,其市場份額有望進一步擴大。
拋光液在晶圓生產過程中扮演著重要角色,化學機械拋光(CMP)是當今最主流的晶圓拋光技術之一。通過降低晶圓表面的粗糙度,拋光液能夠去除多余物,使晶圓有效進行下一道加工程序。其中,化學機械拋光液決定了晶圓的拋光質量和效率。在拋光過程中,晶圓廠會根據每一步晶圓芯片平坦度的加工要求,選擇符合去除率(MRR)和表面粗糙度(Ra)等指標要求的拋光液,以提高拋光效率和產品良率。
隨著全球晶圓產能的持續攀升,對于在晶圓生產過程中扮演重要角色的拋光液產品而言,其市場需求也將水漲船高。芯秦微等相關企業有望受益于各大知名企業在晶圓廠投資擴產方面的動作,包括世界先進、德州儀器(TI)、聞泰科技等公司都在新建或擴建晶圓廠。
值得一提的是,安集科技等拋光液玩家也在積極推進國產替代進程。安集科技在參加投資機構調研會時表示,公司成功打破了國外廠商對集成電路領域化學機械拋光液的壟斷,實現了進口替代。此外,安集科技還表示,公司化學機械拋光液已實現全品類產品線的布局和覆蓋,目前為客戶定制開發的用于第三代半導體襯底材料的拋光液進展順利,部分產品已獲得海外客戶訂單。這意味著安集科技有望進一步打開國際市場,國產拋光液產業未來可期。
未來,芯秦微不僅要繼續加強技術研發,提升產品品質,還要積極拓展市場,打開國際市場。通過與國際知名晶圓廠和客戶建立穩定的合作關系,不斷提高產品質量和服務水平,為全球半導體產業的發展做出更大的貢獻。同時,公司還需要加強內部管理,提高運營效率,降低成本,以應對市場競爭的壓力。
本文鏈接:http://www.www897cc.com/showinfo-27-31911-0.html芯秦微完成A+輪融資,提高產品性能
聲明:本網頁內容旨在傳播知識,若有侵權等問題請及時與本網聯系,我們將在第一時間刪除處理。郵件:2376512515@qq.com
上一篇: 硅光子崛起:高速低能耗的新時代引擎