K60至尊版狂暴引擎2.0加持：超177萬跑分斬獲性能第一
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日本Canon社長兼CEO御手洗富士在近期的采訪中表示，Canon推出的納米壓印微影（Nano Imprint Lithography；NIL）技術的半導體生產(chǎn)設備，相比荷蘭廠商ASML的極紫外光（EUV）曝光機，價格要便宜一位數(shù)（one digit less）。這一聲明無疑是對ASML在先進制程領域的統(tǒng)治地位的直接挑戰(zhàn)。
根據(jù)彭博社的報道，御手洗富士在2023年10月的訪談中指出，盡管具體的價格尚未確定，但Canon的NIL設備在成本上相較于EUV曝光機具有顯著優(yōu)勢。他強調(diào)，許多半導體制造商對NIL技術展現(xiàn)出了濃厚的興趣。
值得一提的是，Canon的NIL技術被用于制造相當于5納米節(jié)點的邏輯IC電路，且未來有望進一步縮小到相當于2納米節(jié)點。這一技術能夠大大提升芯片的集成度和性能，進一步推動芯片制造技術的發(fā)展。
雖然Canon的NIL技術在制造速度上暫時無法與EUV曝光機相媲美，但其能耗只有EUV曝光機的10%，這一顯著的節(jié)能優(yōu)勢將為芯片制造商帶來巨大的經(jīng)濟效益。
當前，先進制程生產(chǎn)所需的EUV曝光機主要由ASML獨家制造。每臺EUV曝光機價值數(shù)億美元，只有少數(shù)如臺積電、三星電子等大型芯片制造商有能力采購。然而，由于各種原因，包括美國對國內(nèi)半導體技術的封鎖，ASML已無法向國內(nèi)出售EUV曝光機。這無疑為Canon的NIL技術提供了一個巨大的市場機會。
盡管御手洗富士明確表示，他理解14納米以下的技術出口是被禁止的，因此他并不認為NIL設備會取代EUV曝光機。但他堅信，NIL設備可以創(chuàng)造新的機會和需求，降低芯片制造商對晶圓代工廠的依賴，為小型芯片制造商提供全球競爭的機會，并降低進入先進制程芯片領域的門檻。
為了滿足中長期的需求，Canon已決定在日本栃木縣的宇都宮地區(qū)興建新廠以增加半導體曝光機的產(chǎn)能。這座新工廠的建設費用約為380億日圓（2.6億美元），并計劃在2025年上半年開始運營。
Canon的NIL技術的推出及其在市場上的表現(xiàn)，無疑將給ASML帶來嚴峻的挑戰(zhàn)。隨著半導體技術的日益復雜和先進制程的不斷推進，芯片制造商對于低成本、高效率和高度自動化的需求將越來越高。Canon的NIL技術能否在這方面提供足夠的解決方案，將是其能否在市場上取得成功的關鍵。
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