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ASML計劃擴大日本員工規模,推動EUV技術發展

來源:icspec 責編: 時間:2025-04-04 08:41:36 73觀看
導讀據報道,荷蘭半導體設備制造商ASML近日宣布,計劃將其在日本的極紫外光(EUV)芯片工具相關員工人數增加五倍。ASML的EUV技術被認為是制造下一代高性能芯片的核心。隨著全球對高性能芯片需求的快速增長,ASML的擴張不僅能提升其
據報道,荷蘭半導體設備制造商ASML近日宣布,計劃將其在日本的極紫外光(EUV)芯片工具相關員工人數增加五倍。
ASML的EUV技術被認為是制造下一代高性能芯片的核心。隨著全球對高性能芯片需求的快速增長,ASML的擴張不僅能提升其在日本的業務能力,還將助力日本半導體產業的技術升級與人才培養。與此同時,日本本土半導體企業Rapidus正計劃啟動2納米工藝的試產,預計本月開始,并力求在2027年前實現全面量產。
ASML的擴張計劃正值日本加大對半導體制造領域投入的關鍵時期,此舉也被視為對日本市場潛力的充分肯定。

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