近日,有消息人士透露,三星的3nm Gate-All-Around(GAA)工藝良品率已經(jīng)獲得了三倍提升,最高達(dá)到了60%。
但根據(jù)相關(guān)報(bào)告指出的內(nèi)容,三星至少需要將良品率提升至70%,才能夠追趕上主要競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手臺(tái)積電,并贏得高通等重要客戶的認(rèn)可。
但臺(tái)積電也并非毫無(wú)動(dòng)作。
此前,臺(tái)積電曾宣布,將在幾年將3nm晶圓的產(chǎn)量提高至每月10萬(wàn)片左右,這將進(jìn)一步拉開三星與其的差距。
有趣的是,三星或許試圖從“2nm”制程實(shí)現(xiàn)超車。
據(jù)悉,三星此前在其第二代3nm工藝上投入了大量精力,針對(duì)功耗、性能等問(wèn)題做出了改進(jìn)。
而這一“第二代3nm工藝”,目前已經(jīng)改名為“2nm工藝”,并已通知合作方重新簽訂協(xié)議。
本文鏈接:http://www.www897cc.com/showinfo-22-79174-0.html三星3nm制程良品率提升3倍:仍落后于競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手
聲明:本網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容旨在傳播知識(shí),若有侵權(quán)等問(wèn)題請(qǐng)及時(shí)與本網(wǎng)聯(lián)系,我們將在第一時(shí)間刪除處理。郵件:2376512515@qq.com