直屏旗艦來了 iQOO 12和K70 Pro同臺競技
旗艦機基本上使用的都是雙曲面屏幕，這就讓很多喜歡直屏的愛好者在苦等一款直屏旗艦，這次，你們等到了。據博主數碼閑聊站帶來的最新爆料稱，Redmi下代旗艦K70 Pro和iQOO 12兩款手
在國內芯片產業中，光刻機技術一直是制約發展的關鍵。在沒有ASML提供浸潤式光刻機和EUV光刻機的情況下，國產光刻機難以在7nm以下取得突破。
近年來，國內頻繁傳出光刻機突破的消息，但關鍵問題在于核心部件的國產化進展如何？
光刻技術是在特定波長的光照下，借助光刻膠將圖形轉移到基片上的工藝。核心部件包括光源系統、物鏡系統和雙工作臺。
光源系統使用193nm波長的深紫外線，目前上海微電子的90nm光刻機也采用了193nm波長，支持最高達到7nm。
物鏡系統是真正的難點，ASML使用的是由卡爾蔡司提供的，目前國產光刻機的物鏡系統尚處于90nm水平，但據稱長春光電所的物鏡系統已經達到32nm，尚待確認是否已應用于光刻機。
在物鏡系統方面，國內與ASML仍存在較大差距，可能是限制國產光刻機突破的重要因素之一。克服這一挑戰，將是國產光刻機向前邁進的重要一步。
本文鏈接：http://www.www897cc.com/showinfo-27-34387-0.html國產光刻機挑戰：突破核心技術差距待解
聲明：本網頁內容旨在傳播知識，若有侵權等問題請及時與本網聯系，我們將在第一時間刪除處理。郵件：2376512515@qq.com
Copyright ? 2016-2023 天津谷騏科技有限公司 版權所有 sitemap.xml
違法及侵權請聯系：2376512515@qq.com 津ICP備18001702號
津公網安備 12010102000574號