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SK海力士前員工因泄露核心技術被捕,涉及CIS與HBM技術

來源:icspec 責編: 時間:2025-05-08 17:57:35 34觀看
導讀據韓聯社、中央日報等韓媒報道,韓國首爾中央地方檢察廳情報技術犯罪調查部以涉嫌違反《關于防止泄露并保護產業技術的法律》為由,逮捕并起訴了SK海力士中國分公司的一名前金姓員工。該員工被指控試圖跳槽至華為子公司海
據韓聯社、中央日報等韓媒報道,韓國首爾中央地方檢察廳情報技術犯罪調查部以涉嫌違反《關于防止泄露并保護產業技術的法律》為由,逮捕并起訴了SK海力士中國分公司的一名前金姓員工。該員工被指控試圖跳槽至華為子公司海思半導體,并在此過程中泄露了多項關鍵技術。
據調查,這名金姓員工涉嫌在2022年接受海思半導體的跳槽建議后,違反SK海力士的保密規定,以打印和拍攝等方式非法獲取并泄露公司核心技術和營業機密數據。這些數據包括CMOS影像傳感器(CIS)技術、高帶寬存儲器(HBM)用混合鍵合技術等先進技術。
檢方透露,該員工拍攝的技術數據照片超過1.1萬張。為掩蓋數據外流的事實,他刪除了部分文件中的“對外保密”字樣和公司標志后才進行拍攝。此外,他還利用SK海力士的商業機密數據制作簡歷,并提交給兩家中國公司。

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