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史上先進！ASML研發新一代Hyper NA EUV光刻機：5nm單次曝光

來源：責編：時間：2025-06-29 17:20:28 5觀看

導讀快科技6月29日消息，全球大半導體設備龍頭ASML已著手研發下一代Hyper NA EUV先進光刻機，為未來十年的芯片產業做準備。Jos Benschop表示，ASML及獨家光學合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）正在研究可在單次曝光中印刷出分

快科技6月29日消息，全球大半導體設備龍頭ASML已著手研發下一代Hyper NA EUV先進光刻機，為未來十年的芯片產業做準備。

Jos Benschop表示，ASML及獨家光學合作伙伴蔡司（Carl Zeiss）正在研究可在單次曝光中印刷出分辨率精細到5nm的EUV光刻機，可滿足2035年之后的制程需求。

據悉，ASML目前出貨的先進光刻機，可達到單次曝光8nm分辨率。而之前老舊光刻機必須多次曝光才能達到類似分辨率，不僅效率較低，而且良率也有限。

Benschop指出，ASML正與蔡司進行設計研究，目標是實現數值孔徑（NA）0.7 或以上，目前尚未設定具體上市時間表。

數值孔徑（NA）是衡量光學系統收集與聚焦光線能力的關鍵指標，也是決定電路圖樣能否精細投影到晶圓上的關鍵因素。當NA越大、光波長越短，印刷分辨率就越高。

目前標準EUV光刻機的NA為0.33，新一代High NA EUV則提升至0.55。當下，ASML正朝向NA 0.7或超高NA（Hyper NA）邁進。

史上先進！ASML新一代Hyper NA EUV光刻機曝光：5nm單次曝光

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