荷蘭設(shè)備大廠ASML與三星電子將共同設(shè)立半導(dǎo)體研發(fā)中心,專注于新一代存儲(chǔ)器所需的極紫外光(EUV)技術(shù)。此舉預(yù)計(jì)將有助于三星與競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手拉開技術(shù)差距,同時(shí)也有助于ASML拓展存儲(chǔ)器客戶。
據(jù)報(bào)道,兩家公司已簽訂合作備忘錄,計(jì)劃共同投入1萬億韓元(約7.6億美元)在韓國(guó)設(shè)立名為“EUV Joint Lab”的研究所。該研究所預(yù)計(jì)將在2024年在韓國(guó)首都圈動(dòng)工,并正在討論用地問題。
ASML首次與海外企業(yè)共同建設(shè)EUV研究所,此次合作將引入新一代High-NA EUV技術(shù),具有更高的精度和分辨率。過去,三星很少與其他公司共同設(shè)立研究中心,此次合作表明三星愿意為在新一代存儲(chǔ)器市場(chǎng)中與競(jìng)業(yè)拉開技術(shù)差距而冒險(xiǎn)。
此次合作對(duì)ASML來說意義重大,不僅可以加深與三星的合作關(guān)系,還有望吸引SK海力士、美光等存儲(chǔ)器企業(yè)成為新的大客戶。
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