2021年8月成立的新凱來隸屬于深圳市重大產業投資集團，該集團為深圳國資委全資子公司。這家新興企業迅速崛起，推出涵蓋曝光、薄膜沉積、蝕刻等核心工藝的數十款設備，并發布了28納米12英寸晶圓曝光技術，引發業界高度關注。
新凱來的團隊主要由來自ASML、應用材料（Applied Materials）、東京電子（TEL）和臺積電等國際大廠的工程師組成，其研發和制造據點遍布多地。盡管成立僅4年，新凱來已展現出強大的技術能力，但其崛起也引發行業三大疑慮。
首先，業界擔心新凱來的快速擴張可能與北方華創、中微半導體等形成競爭；其次，新凱來的產品被質疑存在模仿國內外同行的現象，其技術的原創性和實際性能尚待驗證。最后，據知情人士透露，新凱來目前的主要客戶僅限于青島芯恩，市場覆蓋范圍有限。
新凱來公開表示，其產品線涵蓋原子層沉積（ALD）、化學氣相沉積（CVD）、物理氣相沉積（PVD）、蝕刻、退火等關鍵工藝設備，并在28納米制程上具備與國際大廠競爭的能力。
部分業內人士指出，中國憑借龐大的內需市場和低成本優勢，結合強大的“逆向工程”能力，未來有望在半導體領域找到突破口，只是時間問題。

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