2021年8月成立的新凱來隸屬于深圳市重大產業投資集團,該集團為深圳國資委全資子公司。這家新興企業迅速崛起,推出涵蓋曝光、薄膜沉積、蝕刻等核心工藝的數十款設備,并發布了28納米12英寸晶圓曝光技術,引發業界高度關注。
新凱來的團隊主要由來自ASML、應用材料(Applied Materials)、東京電子(TEL)和臺積電等國際大廠的工程師組成,其研發和制造據點遍布多地。盡管成立僅4年,新凱來已展現出強大的技術能力,但其崛起也引發行業三大疑慮。
首先,業界擔心新凱來的快速擴張可能與北方華創、中微半導體等形成競爭;其次,新凱來的產品被質疑存在模仿國內外同行的現象,其技術的原創性和實際性能尚待驗證。最后,據知情人士透露,新凱來目前的主要客戶僅限于青島芯恩,市場覆蓋范圍有限。
新凱來公開表示,其產品線涵蓋原子層沉積(ALD)、化學氣相沉積(CVD)、物理氣相沉積(PVD)、蝕刻、退火等關鍵工藝設備,并在28納米制程上具備與國際大廠競爭的能力。
部分業內人士指出,中國憑借龐大的內需市場和低成本優勢,結合強大的“逆向工程”能力,未來有望在半導體領域找到突破口,只是時間問題。
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