計算光刻作為現(xiàn)代芯片制造光刻環(huán)節(jié)的核心技術(shù)之一,其發(fā)展經(jīng)歷了從規(guī)則導(dǎo)向到模型驅(qū)動的轉(zhuǎn)變。然而,隨著制程邁向 7nm 乃至 5nm 節(jié)點(diǎn),傳統(tǒng)方法因規(guī)則局限、優(yōu)化自由度不足等制約,難以滿足復(fù)雜芯片設(shè)計的高要求。在此背景下,反向光刻技術(shù)(ILT)以其獨(dú)特的優(yōu)化思路應(yīng)運(yùn)而生。
ILT 即從目標(biāo)芯片圖案出發(fā),逆向推導(dǎo)獲得最優(yōu)化掩模圖案,極大地提升優(yōu)化的靈活性和精準(zhǔn)度,更能滿足先進(jìn)制程對圖形精度的苛刻需求。因此,在探索 7nm 及以下制程的征途中,ILT 技術(shù)無疑將是提升制造良率的關(guān)鍵技術(shù)。尤其在尖端光刻設(shè)備受限的國內(nèi)環(huán)境下,其重要性更是不言而喻。
ILT 并非一種新興技術(shù),但其存在諸如計算量大效率低,掩模復(fù)雜度高難于制造等技術(shù)難點(diǎn),長期以來尚未得到廣泛應(yīng)用。作為探索 ILT 技術(shù)的先驅(qū)之一,東方晶源 ILT 采用 GPU 集群高性能計算解決方案,解決了計算量大的難題,率先實(shí)現(xiàn)了全芯片級別的基于 ILT 技術(shù)的掩模優(yōu)化。面對 7/5nm 等先進(jìn)制程的迫切需求,近期東方晶源 ILT 解決方案又成功攻克眾多技術(shù)難題,包括優(yōu)化收斂性、結(jié)果一致性、人工智能加速、掩模復(fù)雜度重整化等,目前正在國內(nèi)各大 Fab 廠商加緊驗證。
革新后的東方晶源 ILT 解決方案其主要特點(diǎn)及優(yōu)勢體現(xiàn)在以下幾個方面:
獨(dú)創(chuàng)的混合掩模優(yōu)化方法,顯著降低計算復(fù)雜度,提升整體計算效率,特別是在優(yōu)化輔助曝光信號的同時考慮三維掩模效應(yīng),提供更為精準(zhǔn)的掩模結(jié)果。
引入人工智能技術(shù)進(jìn)一步解決 ILT 所需運(yùn)算時間長的弊端,其深度學(xué)習(xí)模型預(yù)測結(jié)果與 ILT 計算結(jié)果相似度高達(dá) 95%,同時獲得近十倍的提速。
支持矩形圖形(Rectangle)、曼哈頓圖形(Manhattan)以及曲線圖形(Curvilinear)的不同復(fù)雜度掩模設(shè)計,適應(yīng)不同客戶及應(yīng)用場景需求。
圖 1 人工智能賦能東方晶源全芯片 ILT 解決方案
圖 2 PanGen ILT? 支持生成不同復(fù)雜度的掩模圖形
圖 3 PanGen ILT? 結(jié)果相比傳統(tǒng) OPC 結(jié)果工藝窗口增大超過 10%
東方晶源自 2014 年成立以來,在計算光刻領(lǐng)域持續(xù)創(chuàng)新,構(gòu)建了全面且領(lǐng)先的技術(shù)體系,旗下計算光刻平臺 PanGen? 已經(jīng)形成八大產(chǎn)品矩陣,包括 Model、DRC、SBAR、OPC、LRC、DPT、SMO、DMC,具備完整的計算光刻相關(guān) EDA 工具鏈條,并已在國內(nèi)各大 Fab 廠商廣泛應(yīng)用,量產(chǎn)掩模超 6000 張。隨著 ILT 解決方案的不斷革新,其在效率和性能上的優(yōu)勢更加突顯,必將在先進(jìn)制程研發(fā)和應(yīng)用中發(fā)揮重要作用,在提升良率、降低生產(chǎn)成本方面展現(xiàn)出獨(dú)特的價值。展望未來,東方晶源將持續(xù)堅持技術(shù)創(chuàng)新,提供卓越的解決方案,為我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和進(jìn)步貢獻(xiàn)智慧和力量。
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