今天,中國光谷官方公眾號宣布,光谷企業(yè)在半導(dǎo)體專用光刻膠領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)了巨大突破。
根據(jù)官方介紹,武漢太紫微光電科技有限公司推出的T150 A光刻膠產(chǎn)品,已通過半導(dǎo)體工藝量產(chǎn)驗(yàn)證,實(shí)現(xiàn)配方全自主設(shè)計(jì),有望開創(chuàng)國內(nèi)半導(dǎo)體光刻制造新局面。
據(jù)悉,T150 A對標(biāo)國際頭部企業(yè)主流KrF光刻膠系列,在光刻工藝中表現(xiàn)出的極限分辨率達(dá)到120nm,且工藝寬容度更大,穩(wěn)定性更高,堅(jiān)膜后烘留膜率優(yōu)秀,其對后道刻蝕工藝表現(xiàn)更為友好。
此外,通過驗(yàn)證發(fā)現(xiàn),T150 A中密集圖形經(jīng)過刻蝕,下層介質(zhì)的側(cè)壁垂直度表現(xiàn)優(yōu)異。
對此,太紫微公司企業(yè)負(fù)責(zé)人、英國皇家化學(xué)會(huì)會(huì)員、華中科技大學(xué)教授朱明強(qiáng)表示:
“以原材料的開發(fā)為起點(diǎn),最終獲得具有自主知識產(chǎn)權(quán)的配方技術(shù),這只是個(gè)開始,我們團(tuán)隊(duì)還會(huì)發(fā)展一系列應(yīng)用于不同場景下的KrF與ArF光刻膠,為國內(nèi)相關(guān)產(chǎn)業(yè)帶來更多驚喜。”
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