主要優點
1、提供卓越的經濟承受能力,同時支持各種需求
NSR-2205iL1 將提供高生產率,同時通過使用多點自動對焦 (AF) 的高精度晶圓測量、先進的晶圓平臺調平(通過傾斜放置晶圓的工作臺來校正曝光期間曝光圖像平面和基板表面之間的偏移的機構)和寬 DOF(擴展的焦深范圍)來優化各種半導體制造工藝的良率水平。此外,由于其晶圓厚度和尺寸兼容性、高晶圓翹曲容限以及靈活的功能(包括但不限于支持 碳化硅和 氮化鎵加工),它非常適合各種應用。NSR-2205iL1 i-line 步進機將提供卓越的經濟性,同時滿足芯片制造商的多樣化要求。
2、與現有產品和晶圓廠運營兼容
NSR-2205iL1 可以與現有晶圓廠運營兼容,在晶圓廠中擁有尼康 i-line 曝光系統的客戶可以繼續利用現有的資產和運營,例如光掩模和晶圓曝光解決方案。此外,NSR-2205iL1 還可以補充或替換不再滿足制造要求的現有步進式光刻機。
3、專為長期使用和可持續性而設計
NSR-2205iL1 可以放心地長期使用,因為其設計采用通用商用組件,比以往更容易采購零件,并為未來提供更可持續的光刻解決方案。
編輯:芯智訊-林子
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