主要優(yōu)點(diǎn)
1、提供卓越的經(jīng)濟(jì)承受能力,同時(shí)支持各種需求
NSR-2205iL1 將提供高生產(chǎn)率,同時(shí)通過使用多點(diǎn)自動對焦 (AF) 的高精度晶圓測量、先進(jìn)的晶圓平臺調(diào)平(通過傾斜放置晶圓的工作臺來校正曝光期間曝光圖像平面和基板表面之間的偏移的機(jī)構(gòu))和寬 DOF(擴(kuò)展的焦深范圍)來優(yōu)化各種半導(dǎo)體制造工藝的良率水平。此外,由于其晶圓厚度和尺寸兼容性、高晶圓翹曲容限以及靈活的功能(包括但不限于支持 碳化硅和 氮化鎵加工),它非常適合各種應(yīng)用。NSR-2205iL1 i-line 步進(jìn)機(jī)將提供卓越的經(jīng)濟(jì)性,同時(shí)滿足芯片制造商的多樣化要求。
2、與現(xiàn)有產(chǎn)品和晶圓廠運(yùn)營兼容
NSR-2205iL1 可以與現(xiàn)有晶圓廠運(yùn)營兼容,在晶圓廠中擁有尼康 i-line 曝光系統(tǒng)的客戶可以繼續(xù)利用現(xiàn)有的資產(chǎn)和運(yùn)營,例如光掩模和晶圓曝光解決方案。此外,NSR-2205iL1 還可以補(bǔ)充或替換不再滿足制造要求的現(xiàn)有步進(jìn)式光刻機(jī)。
3、專為長期使用和可持續(xù)性而設(shè)計(jì)
NSR-2205iL1 可以放心地長期使用,因?yàn)槠湓O(shè)計(jì)采用通用商用組件,比以往更容易采購零件,并為未來提供更可持續(xù)的光刻解決方案。
編輯:芯智訊-林子
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