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晶能光電首發硅襯底 InGaN基三基色Micro LED外延

來源: 責編: 時間:2023-09-02 18:19:06 312觀看
導讀近日,晶能光電發布12英寸硅襯底InGaN基紅、綠、藍全系列三基色Micro LED外延技術成果。 晶能光電展示12英寸硅襯底紅、綠、藍光InGaN基LED外延片快檢EL點亮效果 據悉,晶能光電創立于2006年,是具有底層芯片核心技術的

近日,晶能光電發布12英寸硅襯底InGaN基紅、綠、藍全系列三基色Micro LED外延技術成果。hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com





晶能光電展示12英寸硅襯底紅、綠、藍光InGaN基LED外延片快檢EL點亮效果hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com


據悉,晶能光電創立于2006年,是具有底層芯片核心技術的全產業鏈IDM半導體光電產品提供商,為全球客戶提供高品質的LED(外延、芯片、封裝和模組)光源和感知傳感器件產品和解決方案。hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com


基于近20年的硅襯底GaN基LED技術和產業化積累,晶能光電早在2020年便推出8英寸硅襯底InGaN紅光外延技術,目前仍在持續研發以提升InGaN紅光光效。hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com


2021年9月,晶能光電成功制備像素點間距為25微米、像素密度為1000PPI的硅襯底InGaN紅、綠、藍三基色Micro LED陣列。目前,像素點間距這一重要技術指標已縮至8微米。hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com


2022年,晶能光電突破8英寸硅襯底InGaN基三基色Micro LED外延關鍵技術,并成功制備5微米pitch的Micro LED三基色陣列,積極布局新興市場。hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com


晶能光電表示,受成本和良率的驅動,向大尺寸晶圓升級已是Micro LED產業化的確定發展趨勢,這也契合公司在硅襯底GaN基LED技術領域的持續創新追求。大尺寸晶圓不僅可以大幅度提高Micro LED外延片和CMOS背板的利用率,并且更利于兼容成熟的硅IC設備及工藝,提高Micro LED制程效率,降低成本,加速Micro LED技術的商用進程。hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com


據晶能光電副總裁付羿博士介紹,大尺寸硅襯底Micro LED外延生長對GaN晶體質量、外延翹曲、外量子效率、光電一致性和InGaN紅光MQW等關鍵技術開發帶來了更嚴苛的挑戰。hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com


此次12英寸硅襯底InGaN基紅、綠、藍三基色Micro LED產業化外延技術的發布,表明晶能光電利用其硅襯底GaN基LED技術不斷的創新迭代能力,已經初步攻克上述關鍵技術挑戰,為后續技術和工藝的優化和完善鋪平了道路。hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com


晶能光電進一步表示,蘋果在今年推出Vision Pro,給全球AR/VR行業帶來更高的熱度,但Vision Pro不會是終點,人們對輕便、高效的可穿戴顯示技術的期待越來越熱切,這將大大推動各種微顯技術的創新和應用。hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com


基于大尺寸硅襯底的Micro LED工藝路線在成本、良率和光效上極具潛力,有望成為微米級Micro LED的主流產業化路線,12英寸硅襯底三基色Micro LED外延技術的突破,將在這一方向上有力推動Micro LED顯示技術向前發展。( 文:化合物半導體市場)hbA28資訊網——每日最新資訊28at.com


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