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三星攜手ASML，共同投資1兆韓元打造半導(dǎo)體研究中心

來源：責(zé)編：時間：2023-12-13 17:00:57 385觀看

導(dǎo)讀在半導(dǎo)體領(lǐng)域的合作浪潮中，三星電子與ASML宣布達(dá)成一項重要備忘錄，將聯(lián)手投資1兆韓元，在韓國設(shè)立先進(jìn)半導(dǎo)體制程技術(shù)研究中心。此次合作還將利用下一代極紫外（EUV）曝光機進(jìn)行深入研究。與此同時，ASML還與SK海力士簽署了環(huán)境

在半導(dǎo)體領(lǐng)域的合作浪潮中，三星電子與ASML宣布達(dá)成一項重要備忘錄，將聯(lián)手投資1兆韓元，在韓國設(shè)立先進(jìn)半導(dǎo)體制程技術(shù)研究中心。此次合作還將利用下一代極紫外（EUV）曝光機進(jìn)行深入研究。

與此同時，ASML還與SK海力士簽署了環(huán)境、社會和公司治理（ESG）備忘錄，雙方將在多個領(lǐng)域展開合作。這一消息表明了半導(dǎo)體行業(yè)內(nèi)強大的跨界合作趨勢。

上個月初的消息曝光，揭示了三星電子計劃在未來五年內(nèi)從ASML采購50套設(shè)備，每套設(shè)備約價2,000億韓圜，總價值可達(dá)10兆韓元。這顯示了三星電子對于EUV曝光機的強烈需求，以應(yīng)對其全球首個采用全柵極（GAA）技術(shù)的3奈米半導(dǎo)體晶片制程技術(shù)。

三星電子的戰(zhàn)略目標(biāo)是在2024年上半年實現(xiàn)第二代3奈米制程技術(shù)，并在2025年進(jìn)入2奈米制程技術(shù)，最終在2027年達(dá)到1.4奈米半導(dǎo)體制程技術(shù)領(lǐng)域。為了實現(xiàn)這一目標(biāo)，三星電子與ASML的合作成為關(guān)鍵一環(huán)。

值得關(guān)注的是，ASML計劃在2023年底前發(fā)布首臺商用High-NA（NA=0.55）EUV曝光機，預(yù)計2025年開始量產(chǎn)。這將使客戶能夠從傳統(tǒng)EUV多重圖案化轉(zhuǎn)向High-NA EUV單一圖案化，降低制程成本，提高產(chǎn)量。目前，ASML已鎖定包括英特爾、臺積電、SK海力士、美光等在內(nèi)的五大客戶。

三星電子與ASML的合作不僅在技術(shù)領(lǐng)域展現(xiàn)出強大合作潛力，同時也為半導(dǎo)體行業(yè)的未來發(fā)展注入了新的動力。

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