Flowable工作流引擎的科普與實踐
一.引言當我們在日常工作和業務中需要進行各種審批流程時，可能會面臨一系列技術和業務上的挑戰。手動處理這些審批流程可能會導致開發成本的增加以及業務復雜度的上升。在這
在半導體領域的合作浪潮中，三星電子與ASML宣布達成一項重要備忘錄，將聯手投資1兆韓元，在韓國設立先進半導體制程技術研究中心。此次合作還將利用下一代極紫外（EUV）曝光機進行深入研究。
與此同時，ASML還與SK海力士簽署了環境、社會和公司治理（ESG）備忘錄，雙方將在多個領域展開合作。這一消息表明了半導體行業內強大的跨界合作趨勢。
上個月初的消息曝光，揭示了三星電子計劃在未來五年內從ASML采購50套設備，每套設備約價2,000億韓圜，總價值可達10兆韓元。這顯示了三星電子對于EUV曝光機的強烈需求，以應對其全球首個采用全柵極（GAA）技術的3奈米半導體晶片制程技術。
三星電子的戰略目標是在2024年上半年實現第二代3奈米制程技術，并在2025年進入2奈米制程技術，最終在2027年達到1.4奈米半導體制程技術領域。為了實現這一目標，三星電子與ASML的合作成為關鍵一環。
值得關注的是，ASML計劃在2023年底前發布首臺商用High-NA（NA=0.55）EUV曝光機，預計2025年開始量產。這將使客戶能夠從傳統EUV多重圖案化轉向High-NA EUV單一圖案化，降低制程成本，提高產量。目前，ASML已鎖定包括英特爾、臺積電、SK海力士、美光等在內的五大客戶。
三星電子與ASML的合作不僅在技術領域展現出強大合作潛力，同時也為半導體行業的未來發展注入了新的動力。
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