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Rapidus:2024年2nm芯片廠將引入EUV技術

來源: 責編: 時間:2023-12-08 09:14:44 287觀看
導讀近日,由豐田、Sony、NTT、NEC、軟銀、Denso、鎧俠、三菱UFJ等8家日本企業合資成立的半導體研發/制造/銷售公司Rapidus,宣布計劃在2024年底引入極紫外光(EUV)微影設備,為其在北海道建設的2nm芯片工廠注入先進技術。Rapidus

近日,由豐田、Sony、NTT、NEC、軟銀、Denso、鎧俠、三菱UFJ等8家日本企業合資成立的半導體研發/制造/銷售公司Rapidus,宣布計劃在2024年底引入極紫外光(EUV)微影設備,為其在北海道建設的2nm芯片工廠注入先進技術。MqO28資訊網——每日最新資訊28at.com


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Rapidus當前正全力打造位于北海道的2nm芯片工廠,首座工廠“IIM-1”已于9月開始動工。試產產線計劃于2025年4月啟用,隨后在2027年正式進入量產階段。該公司的宏偉目標是在正式量產之前確保約1,000名員工的技術熟練程度。MqO28資訊網——每日最新資訊28at.com


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為了迎接EUV技術的引入,Rapidus計劃在2023年內招募約300名員工,其中大約100名工程師將被派往合作伙伴IBM和ASML,深入學習EUV微影設備技術。這一戰略性合作將為Rapidus提供強大的技術支持,推動公司在半導體領域的創新發展。MqO28資訊網——每日最新資訊28at.com


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