近日,由豐田、Sony、NTT、NEC、軟銀、Denso、鎧俠、三菱UFJ等8家日本企業合資成立的半導體研發/制造/銷售公司Rapidus,宣布計劃在2024年底引入極紫外光(EUV)微影設備,為其在北海道建設的2nm芯片工廠注入先進技術。
Rapidus當前正全力打造位于北海道的2nm芯片工廠,首座工廠“IIM-1”已于9月開始動工。試產產線計劃于2025年4月啟用,隨后在2027年正式進入量產階段。該公司的宏偉目標是在正式量產之前確保約1,000名員工的技術熟練程度。
為了迎接EUV技術的引入,Rapidus計劃在2023年內招募約300名員工,其中大約100名工程師將被派往合作伙伴IBM和ASML,深入學習EUV微影設備技術。這一戰略性合作將為Rapidus提供強大的技術支持,推動公司在半導體領域的創新發展。
本文鏈接:http://www.www897cc.com/showinfo-27-39391-0.htmlRapidus:2024年2nm芯片廠將引入EUV技術
聲明:本網頁內容旨在傳播知識,若有侵權等問題請及時與本網聯系,我們將在第一時間刪除處理。郵件:2376512515@qq.com
上一篇: 韓國與荷蘭計劃商討組建“芯片聯盟”