Find N3入網：最高支持16+1TB
OPPO將于近期登場的Find N3折疊屏目前已經正式入網，型號為PHN110。本次Find N3在外觀方面相比前兩代有很大的變化，不再是小號的橫向折疊屏，而是跟別的廠商一樣采用了較為常見的
ictimes消息，三星公司在半導體領域取得了引人注目的突破，其極紫外（EUV）光刻技術實現了顯著的進展。在最近舉行的“KISM2023”學術會議上，三星DS事業部研究員康永錫(Kang Young-seok)詳細介紹了EUV技術的現狀和未來發展方向。
據了解，三星的EUV技術的核心在于其對EUV薄膜的創新應用，這種材料在半導體生產的光刻過程中扮演著至關重要的角色，能夠有效保護光刻區域，防止外部顆粒引起的缺陷?？涤厘a透露，三星目前采用的EUV薄膜透光率已經達到驚人的90%，而公司計劃將其進一步提升至94-96%的水平。
這一90%的透光率意味著只有部分光線能夠穿透薄膜，達到掩膜的效果，相較于一般使用氟化氬（ArF）光源的光刻工藝，其透光率較低，后者通常能夠達到99.3%。這突破性的技術提升為三星在EUV代工生產線上引入了更多的客戶打開了新的可能性。盡管在DRAM生產中也采用了EUV工藝，但鑒于生產效率和成本的考慮，存儲器的量產仍然被認為是可行的選擇。
此外，康永錫暗示三星在采用EUV薄膜時并未選擇國內供應商的產品。他透露，目前唯一的供應商是日本三井公司。雖然韓國的一些公司，如FST和S&S Tech，也在積極開發EUV薄膜，但迄今為止還未達到量產的水平。
這一新聞表明，三星在半導體領域不斷取得創新突破，其EUV技術的進步為行業帶來了新的發展方向。隨著EUV薄膜透光率的不斷提升，相信三星將在未來取得更加顯著的成就，推動半導體制造技術邁向新的高度。
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