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SKMP成功研發(fā)高厚度KrF光刻膠

來源：責編：時間：2023-11-30 17:31:21 279觀看

導讀韓國SK集團于2020年以400億韓元收購了錦湖石化的電子材料業(yè)務，新成立的子公司SK Material Performance（SKMP）近期成功研發(fā)了一種高厚度KrF光刻膠，并已通過SK海力士的性能驗證。這一創(chuàng)新將助力SK海力士的3D NAND閃存技術(shù)發(fā)

韓國SK集團于2020年以400億韓元收購了錦湖石化的電子材料業(yè)務，新成立的子公司SK Material Performance（SKMP）近期成功研發(fā)了一種高厚度KrF光刻膠，并已通過SK海力士的性能驗證。這一創(chuàng)新將助力SK海力士的3D NAND閃存技術(shù)發(fā)展。

據(jù)悉，SKMP開發(fā)的KrF光刻膠厚度為14~15微米，與東進半導體（DONGJIN SEMICHEM）供應給三星的產(chǎn)品相似，而日本JSR公司的類似產(chǎn)品厚度僅為10微米。現(xiàn)在，隨著SKMP的加入，SK海力士將能夠利用這款KrF光刻膠生產(chǎn)238層3D NAND閃存。

SKMP的崛起可能會改變行業(yè)格局，取代日本JSR的主導地位，成為其主要供應商。目前，SK海力士的238層3D NAND閃存晶圓的月產(chǎn)能約為5000片，預計未來將進一步提升產(chǎn)能，從而推動SKMP公司光刻膠的銷售增長。

在閃存技術(shù)方面，SK海力士于2023年8月展示了世界首款321層NAND閃存芯片樣品，屬于TLC 4D NAND，容量高達1Tb，預計產(chǎn)品將于2025年量產(chǎn)。這一突破性的技術(shù)進步將進一步強化SK海力士在存儲器市場的競爭力。

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