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SK子公司開發的先進 NAND 材料通過測試

來源: 責編: 時間:2023-11-21 17:14:00 270觀看
導讀根據韓國的媒體報道,SK海力士公司預計將開始在其3D NAND生產中使用其子公司開發的厚氟化氪(KrF)光致光刻膠(PR)。這一舉措將使SK海力士在存儲市場上更具競爭力,以應對其競爭對手。SK海力士讓自己的子公司開發先進NAND關

根據韓國的媒體報道,SK海力士公司預計將開始在其3D NAND生產中使用其子公司開發的厚氟化氪(KrF)光致光刻膠(PR)。這一舉措將使SK海力士在存儲市場上更具競爭力,以應對其競爭對手。wIC28資訊網——每日最新資訊28at.com


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SK海力士讓自己的子公司開發先進NAND關鍵材料的舉措取得了成功,最近通過了SK海力士的質量測試。據悉,這種KrF PR的厚度約為14至15微米,與東進半導體生產的類似。在3D NAND生產中,“厚”PR是必要的,因為它們有助于使芯片制造商能夠一次制作多層,從而降低成本。然而,較厚的PR也意味著它們的粘膠性更強,這可能會對均勻性產生負面影響,因此它們的開發具有挑戰性。wIC28資訊網——每日最新資訊28at.com


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預計SK海力士將在開始擴大238層3D NAND的生產以配合市場復蘇時應用新的PR。該公司將主要從自己的關聯公司采購PR,并使用JSR作為二級供應商。這意味著先進工藝將使用SK Material Performance和JSR的其他工藝。目前,SK海力士每月生產約5,000片238層3D NAND晶圓,但預計這一數字很快將大幅攀升。wIC28資訊網——每日最新資訊28at.com


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總之,SK海力士的這一舉措將使其在NAND閃存市場上更具競爭力,為其未來的發展奠定了基礎。wIC28資訊網——每日最新資訊28at.com


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