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標(biāo)題:清純半導(dǎo)體與微碧半導(dǎo)體發(fā)布第三代碳化硅MOSFET技術(shù)

來源:icspec 責(zé)編: 時(shí)間:2025-04-23 10:32:49 59觀看
導(dǎo)讀據(jù)清純半導(dǎo)體官方消息,其最新推出的第三代碳化硅MOSFET技術(shù)平臺(tái),主推芯片型號(hào)為S3M008120BK,常溫導(dǎo)通電阻僅為8mΩ,比導(dǎo)通電阻系數(shù)Rsp達(dá)到2.1 mΩ·cm2,達(dá)到了國(guó)際領(lǐng)先水平。這一技術(shù)突破使得新能源汽車電機(jī)驅(qū)動(dòng)器能夠進(jìn)
據(jù)清純半導(dǎo)體官方消息,其最新推出的第三代碳化硅MOSFET技術(shù)平臺(tái),主推芯片型號(hào)為S3M008120BK,常溫導(dǎo)通電阻僅為8mΩ,比導(dǎo)通電阻系數(shù)Rsp達(dá)到2.1 mΩ·cm2,達(dá)到了國(guó)際領(lǐng)先水平。這一技術(shù)突破使得新能源汽車電機(jī)驅(qū)動(dòng)器能夠進(jìn)一步釋放SiC高功率密度和高能量轉(zhuǎn)化效率的潛力,從而有效提升續(xù)航里程。
圖源:清純半導(dǎo)體(圖為清純半導(dǎo)體1、2、3代產(chǎn)品比電阻Rsp變化)
官方資料顯示,清純半導(dǎo)體第一代產(chǎn)品的比導(dǎo)通電阻為3.3 mΩ·cm2,2023年發(fā)布的第二代產(chǎn)品降低至2.8 mΩ·cm2,2024年進(jìn)一步優(yōu)化至2.4 mΩ·cm2。此次第三代平臺(tái)通過專利技術(shù)和工藝優(yōu)化,在降低導(dǎo)通電阻的同時(shí),保持了與前兩代產(chǎn)品相近的優(yōu)良短路耐受特性。
圖源:清純半導(dǎo)體(圖為清純半導(dǎo)體1、2、3代產(chǎn)品比電阻Rsp變化)
此外,S3M008120BK芯片的額定電壓為1.2kV,額定電流超過220A,室溫閾值電壓典型值為2.7~2.8V。在同等芯片面積下,與上一代技術(shù)相比,導(dǎo)通損耗降低了約20%。同時(shí),動(dòng)態(tài)性能方面,該芯片寄生電容進(jìn)一步降低,開關(guān)速度提高,并顯著改善了MOSFET體二極管的反向恢復(fù)特性。
圖源:清純半導(dǎo)體(圖為S3M008120BK芯片輸出特性)
值得一提的是,清純半導(dǎo)體與士蘭微電子已深化8英寸SiC量產(chǎn)線的技術(shù)合作。士蘭微電子預(yù)計(jì)2025年一季度完成8英寸SiC功率器件芯片制造生產(chǎn)線的封頂,四季度初步通線,2026年一季度進(jìn)入試生產(chǎn)階段。雙方將共同開發(fā)溝槽型SiC MOSFET等新產(chǎn)品。
圖源:清純半導(dǎo)體(圖為S3M008120BK芯片與2代同類產(chǎn)品反向恢復(fù)波形對(duì)比)
與此同時(shí),VBsemi(微碧半導(dǎo)體)也發(fā)布了其第三代SiC MOSFET產(chǎn)品,針對(duì)電動(dòng)汽車直流快充、儲(chǔ)能系統(tǒng)(ESS)及雙向充電(V2G)領(lǐng)域進(jìn)行優(yōu)化。據(jù)官方介紹,新產(chǎn)品采用先進(jìn)SiC工藝,開關(guān)損耗降低50%以上,系統(tǒng)效率突破96%。相比IGBT方案,其熱能損耗顯著減少,冷卻設(shè)計(jì)更加簡(jiǎn)化。

圖源:VBsemi(圖為VBsemi MOSFET為快充與儲(chǔ)能優(yōu)化設(shè)計(jì))
VBsemi的第三代SiC MOSFET具備高功率密度,小封裝設(shè)計(jì)(如T0247、T02474L)支持高電流輸出,節(jié)省PCB空間。例如,型號(hào)為VBP112MC100的產(chǎn)品在100A電流下導(dǎo)通電阻僅為21mΩ,適用于大功率密集部署場(chǎng)景。全系列器件已通過嚴(yán)格的動(dòng)態(tài)參數(shù)測(cè)試,確保在高溫、高濕等嚴(yán)苛環(huán)境下的穩(wěn)定性。

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