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SEMICON China 2025:第三代半導(dǎo)體設(shè)備成焦點(diǎn)

來源:icspec 責(zé)編: 時(shí)間:2025-03-27 16:39:22 63觀看
導(dǎo)讀SEMICON China 2025展會正在上海火熱進(jìn)行,多家半導(dǎo)體設(shè)備廠商展示了最新技術(shù)和產(chǎn)品,吸引了眾多觀眾駐足。圍繞第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域,新凱來、電科裝備、高測股份等廠商帶來了創(chuàng)新方案。據(jù)媒體報(bào)道,電科裝備在展會期間發(fā)布了大
SEMICON China 2025展會正在上海火熱進(jìn)行,多家半導(dǎo)體設(shè)備廠商展示了最新技術(shù)和產(chǎn)品,吸引了眾多觀眾駐足。圍繞第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域,新凱來、電科裝備、高測股份等廠商帶來了創(chuàng)新方案。
據(jù)媒體報(bào)道,電科裝備在展會期間發(fā)布了大尺寸碳化硅材料加工智能解決方案。該方案采用最新激光剝離工藝取代傳統(tǒng)多線切割技術(shù),顯著降低了加工損耗。數(shù)據(jù)顯示,平均每片切割研磨損耗僅為原來的40%左右。目前,該方案已獲得市場積極反饋,并與多家頭部企業(yè)達(dá)成合作意向。
新凱來作為國內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備新銳企業(yè),在展會上首次亮相并發(fā)布了五款新品。這些產(chǎn)品涵蓋了先進(jìn)制程和第三代半導(dǎo)體領(lǐng)域,包括EPI(峨眉山)、ALD(阿里山)、PVD(普陀山)、ETCH(武夷山)和CVD(長白山)。其中,EPI外延層技術(shù)在第三代半導(dǎo)體制造中尤為重要,而ETCH和CVD設(shè)備則分別在刻蝕和化學(xué)氣相沉積工藝中扮演關(guān)鍵角色。新凱來表示,其大部分設(shè)備已在2024年底完成驗(yàn)證并進(jìn)入應(yīng)用階段。
高測股份則展示了碳化硅“切、倒、磨”一體化解決方案。該方案針對8英寸碳化硅晶圓加工,實(shí)現(xiàn)了從切割到研磨的全流程覆蓋。在切割環(huán)節(jié),其金剛線切片專機(jī)能夠?qū)崿F(xiàn)高精度切割;在倒角環(huán)節(jié),全自動晶圓倒角機(jī)采用雙工位獨(dú)立研磨設(shè)計(jì);在研磨環(huán)節(jié),全自動減薄機(jī)可將表面粗糙度控制在3nm以下,滿足高端芯片制造需求。
圖源:高測股份

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