一加Ace2 Pro真機揭曉 鈦空灰配色質(zhì)感拉滿
終于，在經(jīng)過了幾波預(yù)熱之后，一加Ace2 Pro的外觀真機圖在網(wǎng)上出現(xiàn)了。還是博主數(shù)碼閑聊站曝光的，這次的外觀設(shè)計還是延續(xù)了一加11的方案，只是細節(jié)上有了調(diào)整，例如新加入了鈦空灰
據(jù)路透報道，英特爾在加利福尼亞州圣何塞的一次會議上宣布，阿斯麥（ASML）首批兩臺尖端高數(shù)值孔徑（NA）光刻機已在其工廠正式投入生產(chǎn)，早期數(shù)據(jù)顯示這些機器性能比早期型號更可靠。
英特爾高級首席工程師史蒂夫?卡森在會上稱，英特爾利用 ASML 的高數(shù)值孔徑光刻機，在一個季度內(nèi)生產(chǎn)出 30,000 個晶圓，這些晶圓是可用于生產(chǎn)數(shù)千個計算芯片的大型硅片。去年，英特爾成為全球首家接收這些先進機器的芯片制造商，這些機器有望生產(chǎn)出比 ASML 早期產(chǎn)品更小、更快的計算芯片。
英特爾曾耗時七年才將早期的 EUV 光刻機全面投入生產(chǎn)，這使其在與臺灣半導(dǎo)體制造公司（2330.TW）的競爭中失去領(lǐng)先地位。在生產(chǎn)初期，英特爾還質(zhì)疑過之前 EUV 型號的可靠性。不過，卡森透露，初步測試顯示，ASML 新型高數(shù)值孔徑機器的可靠性約是上一代機器的兩倍。“我們以穩(wěn)定的速度生產(chǎn)晶圓，這對我們的平臺益處巨大。” 卡森表示。
據(jù)悉，新的 ASML 機器使用光束在芯片上打印特征，相比早期機器，能以更少曝光完成相同工作，節(jié)省時間和成本。英特爾工廠的早期結(jié)果顯示，高數(shù)值孔徑機器只需一次曝光和 “個位數(shù)” 的處理步驟，就能完成早期機器需三次曝光和約 40 個處理步驟的工作。
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