9月15日,一家中國科技公司申請的“5納米芯片制造的直接蝕刻方法”專利正式公布。
摘要顯示,該發明涉及芯片設計及制造。這項發明的亮點在于,不用EUV光刻機或DUV光刻機,不需要光刻過程,直接蝕刻就可以制造5納米芯片。此專利一經公布,便引起了大量網友的關注。對于申請這項專利的中國科技公司,相信不少網友都很好奇。
申請這項專利的中國科技公司名叫“上海創消新技術發展有限公司”。根據企查查APP提供的信息,上海創消新技術發展有限公司于2019年3月13日正式成立,注冊資本為50萬元人民幣,所屬地區為上海市青浦區,法定代表人為劉明革,他同時也是上海敏革化學科技有限公司的股東和監事,持有上海創消新技術發展有限公司85%的股份,另外15%的股份由“劉佳慧”持有,并沒有什么大公司持有上海創消新技術發展有限公司的股份。
工商信息顯示,上海創消新技術發展有限公司的注冊資本包括機械技術、電子技術、化工技術、建筑技術、生物技術領域內的技術開發、技術轉讓、技術服務和技術咨詢。值得注意的是,這家公司的經營范圍并沒有涉及芯片相關的內容,例如芯片設計和芯片制造。
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