近期，隨著華為Mate60系列搭載的麒麟9000S芯片的亮相，全球手機和芯片領域掀起了軒然大波，堪稱是技術的一次巨大飛躍。

這一芯片的誕生，被網友譽為數年來的技術巔峰，標志著中國技術已成功突破7納米制程，擺脫了美國的封鎖。這一舉措給美國帶來了一記沉重的打擊，揭示了他們在試圖鎖死中國芯片技術上的失敗。

在麒麟9000S芯片問世后，專家們紛紛推測美國可能會有三種反應。

首先，美國可以選擇裝作不曾注意，仍然堅守之前的封鎖政策。其次，他們也可以考慮解封，因為封鎖已然失敗，這也有助于美國的芯片企業和半導體設備制造商繼續從中國市場賺取利潤。最后，他們也可以選擇升級封鎖，試圖以更嚴格的手段來打擊中國的半導體產業。

果不其然，最近美國對中國芯片產業的封鎖政策再度升級。其中，對于采用193納米波長、分辨率小于40納米的光刻機，提出了新的“精準”目標，其DCO值不得小于2.4，而去年這一數值僅為1.5。

這一微小變動直接將ASML公司的浸潤式光刻機置于困境之中，因為目前市售的浸潤式光刻機的DCO值均小于2.4，按照新的禁令，它們將無法出售。

業內一致認為，若沒有極紫外光刻機，要實現7納米芯片的生產必須使用浸潤式光刻機，進行多次曝光。普通非浸潤式光刻機無法滿足7納米的要求，所以新禁令的針對對象顯而易見。

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