快科技9月14日消息,近日,工信部發布《首臺(套)重大技術裝備推廣應用指導目錄(2024年版)》。
工信微報介紹稱,重大技術裝備是國之重器,事關綜合國力和國家安全。
中國首臺(套)重大技術裝備是指國內實現重大技術突破、擁有知識產權、尚未取得明顯市場業績的裝備產品,包括整機設備、核心系統和關鍵零部件等。
而就在電子專用裝備目錄下,集成電路設備方面出現了氟化氬光刻機和氟化氪光刻機,這兩者均屬于DUV光刻機。
其中氟化氬光刻機顯示為分辨率≤65nm、套刻≤8nm;氟化氪則顯示分辨率≤110nm、套刻≤25nm。
不過需要注意的是,套刻精度為“多重曝光能達到的高精度”,按套刻精度與量產工藝約1:3的關系,這個光刻機大概可以量產28nm工藝的芯片,大致相當于20年前ASML的1460K。
28nm雖然不是特別先進技術,但意義依然重大,因為這是芯片中低端和中高端的分界線,目前除了先進的CPU、GPU、AI芯片外,其余的工業級芯片大多都是28nm以上技術。
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