5月安卓手機好評榜：魅族20 Pro奪冠
性能榜和性價比榜之后，我們來看最后的安卓手機好評榜，數(shù)據(jù)來源安兔兔評測，收集時間2023年5月1日至5月31日，僅限國內(nèi)市場。第一名：魅族20 Pro好評率：97.50%不得不感慨魅族老品牌還
近日，英特爾前任首席執(zhí)行官帕特·基辛格宣布加入了一家名為xLight的初創(chuàng)公司，擔(dān)任執(zhí)行董事長一職。這一消息不僅得到了基辛格本人在LinkedIn上的確認，xLight官網(wǎng)也早在上個月就對外公布了這一重要人事變動。
xLight公司專注于極紫外（EUV）光刻機的研發(fā)，特別是基于直線電子加速器的自由電子激光（FEL）技術(shù)的EUV光源系統(tǒng)。該公司聲稱，其技術(shù)能夠?qū)⑾到y(tǒng)及運營成本降低三倍，并計劃在2028年實現(xiàn)商用，同時保持與現(xiàn)有設(shè)備的兼容性。
xLight的粒子加速器技術(shù)是其核心競爭力的關(guān)鍵所在。帕特·基辛格對此表示：“我們正站在自互聯(lián)網(wǎng)誕生以來計算基礎(chǔ)設(shè)施最具變革性的時刻。我期待著與xLight合作，推動下一代半導(dǎo)體制造。自由電子激光器是光刻技術(shù)的未來，而xLight無疑是粒子加速器技術(shù)領(lǐng)域的領(lǐng)導(dǎo)者。”
xLight的首席執(zhí)行官Nicholas Kelez對基辛格的加入表示熱烈歡迎：“帕特·基辛格對半導(dǎo)體行業(yè)的技術(shù)理解和知識非常出色，他立即明白了xLight的系統(tǒng)對美國半導(dǎo)體制造業(yè)的未來有多么重要。我們很高興他加入我們的董事會，并期待我們的合作。”
目前，光刻機巨頭ASML所采用的EUV光源系統(tǒng)是基于激光等離子體EUV光源（LPP）的。這種技術(shù)通過高功率的二氧化碳激光器轟擊微小的錫滴，產(chǎn)生13.5nm波長的EUV光線。然而，LPP系統(tǒng)不僅龐大復(fù)雜，功耗巨大，而且產(chǎn)生的EUV光源功率有限，導(dǎo)致EUV光刻機成本高昂。全球僅有少數(shù)頭部晶圓制造廠商能夠使用這種單價高達約1.5億美元的EUV光刻機。
為了降低EUV光源系統(tǒng)的成本，美國、中國、日本等國家的研究機構(gòu)都在研發(fā)基于直線電子加速器的自由電子激光（FEL）技術(shù)的EUV光源系統(tǒng)。其中，基于自由電子激光器（FEL）技術(shù)的EUV光源方案被寄予厚望。這種技術(shù)主要分為振蕩器FEL和自放大自發(fā)輻射（SASE）FEL兩種類型。而SASE-FEL因其適用于短波長FEL，如EUV-FEL，成為目前研究的主要方向。
與LPP光源相比，基于能量回收直線加速器（ERL）的EUV-FEL光源具有多項優(yōu)勢。它可以產(chǎn)生超過10kW的高EUV功率，且不會產(chǎn)生錫滴碎片，因此可以同時為多臺EUV光刻機提供高功率的EUV光源，而不會對反射鏡面造成錫污染。EUV-FEL光源的建設(shè)和運營成本也遠低于LPP光源。
xLight公司正是基于ERL的EUV-FEL技術(shù)路線研發(fā)EUV光源系統(tǒng)的。根據(jù)官網(wǎng)資料顯示，xLight由一支由光源先驅(qū)、光刻師和粒子加速器制造商組成的團隊領(lǐng)導(dǎo)。其首席科學(xué)家Gennady Stupakov博士還是2024年IEEE核能和等離子體科學(xué)學(xué)會粒子加速器科學(xué)技術(shù)獎（PAST獎）的獲獎?wù)咧弧?span style="display:none">Jix28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com
帕特·基辛格在加入xLight后表示，xLight研發(fā)的EUV光源系統(tǒng)功率達到了當(dāng)今最先進EUV光源系統(tǒng)的四倍，即1000W左右，并計劃在2028年準備好用于商業(yè)化應(yīng)用。這將為制造效率帶來重大飛躍，大幅降低每片晶圓的光刻成本，并減少資本和運營支出。
xLight的目標并不是取代ASML的EUV光刻工具，而是推出一個可以兼容ASML EUV光刻機的EUV-FEL光源系統(tǒng)。雖然目前尚不清楚xLight的EUV光源系統(tǒng)是否會兼容ASML的High NA EUV系統(tǒng)，但據(jù)現(xiàn)有信息來看，ASML的High NA EUV光刻機依然是基于EUV-LPP技術(shù)路徑，因此有望實現(xiàn)兼容。
xLight成立的使命是打造一種能夠徹底改變光刻、計量和檢測的光源。該公司利用美國在粒子加速器技術(shù)、基礎(chǔ)設(shè)施和知識方面的領(lǐng)導(dǎo)地位，正在快速開發(fā)和部署其獨特的EUV-FEL光源解決方案，以實現(xiàn)更經(jīng)濟、更可持續(xù)的EUV光刻未來。在此基礎(chǔ)上，xLight設(shè)計了一個具有新功能的HVM（大批量制造）兼容系統(tǒng)，該系統(tǒng)可提供生產(chǎn)力和性能，從而推動尖端半導(dǎo)體制造業(yè)的持續(xù)進步。
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