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ASML 依計劃年底推出首款High NA EUV 微影曝光設(shè)備

來源：責(zé)編：時間：2023-09-07 10:56:40 294觀看

導(dǎo)讀荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商艾司摩爾(ASML) 執(zhí)行長Peter Wennink 表示，盡管有些供應(yīng)商阻礙，但年底將照計畫，推出下一世代產(chǎn)品線首款產(chǎn)品。圖片來源：pixabay高數(shù)值孔徑(High NA) EUV 微

荷蘭半導(dǎo)體設(shè)備制造商艾司摩爾(ASML) 執(zhí)行長Peter Wennink 表示，盡管有些供應(yīng)商阻礙，但年底將照計畫，推出下一世代產(chǎn)品線首款產(chǎn)品。

圖片來源：pixabay

高數(shù)值孔徑(High NA) EUV 微影曝光設(shè)備只有卡車大小，但每臺成本超過3 億歐元(約新臺幣102 億元)。與相機(jī)一樣，高數(shù)值孔徑(High NA) EUV 微影曝光設(shè)備將從更寬角度收集光線，解析度提高70%。對領(lǐng)先半導(dǎo)體制造商生產(chǎn)先進(jìn)半導(dǎo)體晶片是不可或缺的設(shè)備，十年內(nèi)生產(chǎn)面積更小、性能更好的晶片。

ASML 是歐洲最大半導(dǎo)體設(shè)備商，主導(dǎo)微影曝光設(shè)備市場，微影曝光設(shè)備是半導(dǎo)體制造關(guān)鍵步驟，但高數(shù)值孔徑(High NA) EUV，Peter Wennink 指有些供應(yīng)商提高產(chǎn)能及提供適當(dāng)技術(shù)遇到困難，導(dǎo)致延誤。但即便如此，第一批產(chǎn)品仍會在年底推出。

市場只有臺積電、英特爾、三星、SK 海力士和美光使用ASML 產(chǎn)品。目前EUV 微影曝光設(shè)備每套價格超過2 億美元(約新臺幣64 億元)。美國壓力下，荷蘭政府不發(fā)給ASML 出口中國晶片制造商EUV 微影曝光設(shè)備許可證，使中國推動先進(jìn)半體制程面臨瓶頸。

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