據(jù)日本共同通信社和日經(jīng)新聞報道，正在日本訪問的荷蘭首相Dick Schoof于4月22日參觀了位于北海道千歲市的Rapidus工廠。該工廠已啟動2納米芯片試產(chǎn)線，Schoof在參觀期間特別關(guān)注了由ASML提供的極紫外光（EUV）曝光機等關(guān)鍵設(shè)施。
ASML是全球唯一生產(chǎn)EUV曝光機的廠商，這種設(shè)備是制造2納米AI芯片等先進制程半導(dǎo)體的核心工具。Rapidus引進的EUV曝光機造價超過300億日元（約合2億美元）。Rapidus社長小池淳義在迎接Schoof時表示，EUV曝光設(shè)備是工廠最重要的資產(chǎn)。
Schoof在隨后的記者會上指出，減少對單一國家半導(dǎo)體芯片的依賴，推動Rapidus實現(xiàn)量產(chǎn)技術(shù)，不僅對日本，對荷蘭和歐洲也具有重要意義。他強調(diào)，歐洲與日本必須加強合作，共同提升半導(dǎo)體領(lǐng)域的生產(chǎn)技術(shù)。
在此之前，Schoof于4月21日與日本首相石破茂在首相官邸舉行會談。雙方討論了半導(dǎo)體合作等議題，并制定了一份包含軍事、經(jīng)濟安全、數(shù)碼與科學(xué)技術(shù)等具體合作方針的移動計劃。石破茂在會后表示，歡迎眾多日本企業(yè)進駐荷蘭，并稱兩國在半導(dǎo)體領(lǐng)域的合作正在穩(wěn)步推進。

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