據Tom's Hardware報道，澳大利亞蒙納許大學研究團隊近期開發出一種新型石墨烯過濾膜，可有效去除水流中的全氟／多氟烷基物質（PFAS）。這種物質因難以自然分解，被稱為“永久性化學物質”，在半導體制造中廣泛應用，但也帶來了嚴重的環境污染問題。
PFAS在半導體供應鏈中扮演重要角色，例如微影制程中使用的光阻劑液體和蝕刻室中的氣體。然而，PFAS具有極高的水溶性，擴散范圍廣，傳統聚酰胺膜僅能去除約35%的PFAS，而新型石墨烯過濾膜的去除率超過90%，性能大幅提升。
研究團隊采用剪切校準打印技術生產過濾膜，這一方式具備高度可擴展性。此外，蒙納許大學與石墨烯制造商NematiQ關系密切，后者已承諾協助推廣這項技術。預計該過濾膜很快將實現商用化，為工業廢水處理和垃圾掩埋場滲出液凈化提供新方案。
據2022年某晶圓廠數據顯示，其排放廢水中PFAS含量高達7.8萬ppt，遠超美國國家環境保護局（EPA）規定的4ppt標準。盡管有人呼吁全面禁用PFAS，但考慮到其在半導體制造中的重要性，這在短期內并不現實。因此，開發高效污染控制技術成為關鍵。
這一突破性技術不僅有助于減少PFAS污染，還能幫助半導體產業在經濟效益與環境保護之間找到更好的平衡點。

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