英特爾工程師透露，首兩臺ASML高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）微影設備已投入生產，一季度內制造出3萬片晶圓。該設備可靠性較舊時代設備高出1倍，展現出顯著優勢。IOK28資訊網——每日最新資訊28at.com

IOK28資訊網——每日最新資訊28at.com

英特爾資深首席工程師Steven Carson表示，新設備不僅保持穩定的晶圓產出速度，還能通過單次曝光和少數處理步驟完成舊設備需多次曝光和復雜步驟的工作。IOK28資訊網——每日最新資訊28at.com

IOK28資訊網——每日最新資訊28at.com

英特爾計劃利用此高數值孔徑設備助力Intel 18A制程技術開發，并將全面應用于更先進的Intel 14制程。Intel 18A預計2025年下半年量產，而Intel 14的具體時間表尚未公布。IOK28資訊網——每日最新資訊28at.com

IOK28資訊網——每日最新資訊28at.com

此前，英特爾在晶圓制造競爭中落后于臺積電等對手，部分原因在于較晚導入極紫外光設備，并在初期遭遇設備可靠性問題。因此，英特爾搶先購入高數值孔徑設備，以期在新時代制程技術競爭中占據優勢。IOK28資訊網——每日最新資訊28at.com

本文鏈接：http://www.www897cc.com/showinfo-27-133717-0.html英特爾High NA設備已投入生產，可靠性翻倍

聲明：本網頁內容旨在傳播知識，若有侵權等問題請及時與本網聯系，我們將在第一時間刪除處理。郵件：2376512515@qq.com

上一篇： SpaceX擬向FAA提供Starlink終端機，以加快國家航太系統升級

下一篇： 達梭系統推出3D UNIV+RSES藍圖，引領產業新變革