據(jù)鎵仁半導(dǎo)體官微消息,杭州鎵仁半導(dǎo)體有限公司有新進(jìn)展。公司基于自主研發(fā)的氧化鎵專用晶體生長設(shè)備,優(yōu)化工藝,采用垂直布里奇曼(VB)法,成功實現(xiàn) 4 英寸氧化鎵單晶的導(dǎo)電型摻雜。
此前,鎵仁半導(dǎo)體在 VB 法氧化鎵單晶生長上,已實現(xiàn)直徑 4 英寸的突破。之后,團隊在此基礎(chǔ)上開展導(dǎo)電型摻雜工作。令人驚喜的是,研發(fā)團隊僅用一爐次,就完成了 4 英寸導(dǎo)電型氧化鎵單晶的生長,并且長晶結(jié)果穩(wěn)定可重復(fù)。
這充分展現(xiàn)出鎵仁半導(dǎo)體自研的氧化鎵專用晶體生長設(shè)備,以及配套的晶體生長工藝,在 VB 法氧化鎵單晶生長方面,具備高適配性、高穩(wěn)定性和高容錯率的優(yōu)勢。
本文鏈接:http://www.www897cc.com/showinfo-27-132212-0.html鎵仁半導(dǎo)體實現(xiàn)4英寸氧化鎵單晶導(dǎo)電型摻雜突破
聲明:本網(wǎng)頁內(nèi)容旨在傳播知識,若有侵權(quán)等問題請及時與本網(wǎng)聯(lián)系,我們將在第一時間刪除處理。郵件:2376512515@qq.com