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Nikon開發新型ArF液浸式曝光機,力爭市場份額

來源: 責編: 時間:2025-02-20 09:38:26 46觀看
導讀Nikon正與芯片制造商合作,開發新平臺ArF液浸式曝光機,計劃于2028年推出原型機,并計劃在2030年后開發后續機型。該設備特色包括小型化平臺、新投影鏡頭與新晶圓平臺,旨在提升運作速度與便利性,并與ASML設備兼容,以便客戶轉換

Nikon正與芯片制造商合作,開發新平臺ArF液浸式曝光機,計劃于2028年推出原型機,并計劃在2030年后開發后續機型。
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該設備特色包括小型化平臺、新投影鏡頭與新晶圓平臺,旨在提升運作速度與便利性,并與ASML設備兼容,以便客戶轉換。TNa28資訊網——每日最新資訊28at.com


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目前,ASML在ArF液浸式曝光機市場中占據9成以上份額,而Nikon的目標是通過新型設備,擴大市場份額。為此,Nikon強調設備的兼容性,如可使用ASML設備用戶現有的光罩。TNa28資訊網——每日最新資訊28at.com


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隨著DRAM與邏輯IC的3D化發展趨勢,Nikon認為新型ArF液浸式曝光機的需求將進一步擴大。公司希望廣泛客戶,包括臺積電、英特爾和三星電子等半導體制造大廠,能使用其新型設備。TNa28資訊網——每日最新資訊28at.com


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此外,Nikon在ArF乾式曝光機市場中擁有超過1成份額,公司希望在ArF液浸式曝光機市場中,實現從個位數百分比到兩位數的突破。TNa28資訊網——每日最新資訊28at.com


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除了ArF液浸式曝光機,Nikon還生產KrF曝光機與i線曝光機,投入各種光源曝光機市場。TNa28資訊網——每日最新資訊28at.com


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