Nikon正與芯片制造商合作，開發新平臺ArF液浸式曝光機，計劃于2028年推出原型機，并計劃在2030年后開發后續機型。
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該設備特色包括小型化平臺、新投影鏡頭與新晶圓平臺，旨在提升運作速度與便利性，并與ASML設備兼容，以便客戶轉換。U2o28資訊網——每日最新資訊28at.com

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目前，ASML在ArF液浸式曝光機市場中占據9成以上份額，而Nikon的目標是通過新型設備，擴大市場份額。為此，Nikon強調設備的兼容性，如可使用ASML設備用戶現有的光罩。U2o28資訊網——每日最新資訊28at.com

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隨著DRAM與邏輯IC的3D化發展趨勢，Nikon認為新型ArF液浸式曝光機的需求將進一步擴大。公司希望廣泛客戶，包括臺積電、英特爾和三星電子等半導體制造大廠，能使用其新型設備。U2o28資訊網——每日最新資訊28at.com

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此外，Nikon在ArF乾式曝光機市場中擁有超過1成份額，公司希望在ArF液浸式曝光機市場中，實現從個位數百分比到兩位數的突破。U2o28資訊網——每日最新資訊28at.com

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除了ArF液浸式曝光機，Nikon還生產KrF曝光機與i線曝光機，投入各種光源曝光機市場。U2o28資訊網——每日最新資訊28at.com

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