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基于臺積電3nm制程：谷歌Tensor G5進入流片階段

來源：責(zé)編：時間：2024-07-01 17:09:47 139觀看

導(dǎo)讀近日，有消息透露，谷歌計劃用于明年旗艦產(chǎn)品的Tensor G5芯片基于臺積電3nm制程工藝，目前已經(jīng)進入流片階段。據(jù)悉，Tensor G5代號Laguna Beach（拉古納海灘），將通過臺積電InFo_PoP晶圓級扇出封裝技術(shù)實現(xiàn)SoC和DRAM的堆疊，支持16G

近日，有消息透露，谷歌計劃用于明年旗艦產(chǎn)品的Tensor G5芯片基于臺積電3nm制程工藝，目前已經(jīng)進入流片階段。

據(jù)悉，Tensor G5代號Laguna Beach（拉古納海灘），將通過臺積電InFo_PoP晶圓級扇出封裝技術(shù)實現(xiàn)SoC和DRAM的堆疊，支持16GB以上內(nèi)存。

此外，Tensor G5的全自研，將意味著谷歌可完成對Pixel設(shè)備從芯片到設(shè)備整機再到操作系統(tǒng)乃至應(yīng)用程序的全方位掌控，有助于實現(xiàn)更深度的軟硬件整合。

對于谷歌來說，Tensor G5如果能夠順利流片，將意味著它的首款全自研手機SoC距離成功近了一大步。

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