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三星想用第二代3nm爭取英偉達:但良率僅20%遠低于臺積電

來源: 責編: 時間:2024-05-21 17:26:00 154觀看
導讀 快科技5月21日消息,據媒體報道,三星計劃利用其即將推出的第二代3nm工藝技術來爭奪英偉達的芯片代工訂單。但新報告顯示,三星3nm工藝的良率僅為20%,這可能成為其競爭中的一個重大障礙。與此形成鮮明對比的是,臺積

快科技5月21日消息,據媒體報道,三星計劃利用其即將推出的第二代3nm工藝技術來爭奪英偉達的芯片代工訂單。teH28資訊網——每日最新資訊28at.com

但新報告顯示,三星3nm工藝的良率僅為20%,這可能成為其競爭中的一個重大障礙。teH28資訊網——每日最新資訊28at.com

與此形成鮮明對比的是,臺積電的N3B工藝良率已接近55%,這使得臺積電在先進芯片制造領域保持了其行業領導者的地位。teH28資訊網——每日最新資訊28at.com

三星的低良率意味著其生產成本將更高,這可能會削弱其在價格和性能方面與臺積電競爭的能力。teH28資訊網——每日最新資訊28at.com

三星電子晶圓代工部門已經制定了“Nemo”計劃,目標是在2024年贏得英偉達的3nm芯片代工訂單。teH28資訊網——每日最新資訊28at.com

然而,目前三星代工部門尚未成立專門的組織來攻關,且良率問題仍是其面臨的主要難題。teH28資訊網——每日最新資訊28at.com

業界分析人士指出,三星電子預計將在2024年上半年開始量產第二代3nm GAA工藝,這將是三星縮小與臺積電差距的關鍵。teH28資訊網——每日最新資訊28at.com

為了提高良率,三星晶圓代工部門正在全力以赴,并開始不惜一切代價確保技術的成功。teH28資訊網——每日最新資訊28at.com

韓國市場分析師認為,由于地震和地緣政治等不穩定因素,2024年可能是三星縮小與臺積電差距的佳時機。teH28資訊網——每日最新資訊28at.com

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