10月30日消息,據(jù)彭博社報(bào)道,近日“浸沒式光刻之父”、晶圓代工大廠臺(tái)積電前研發(fā)副總林本堅(jiān)(Burn J. Lin)在接受采訪時(shí)罕見地表示,美國無法阻止中國大陸公司在先進(jìn)制程芯片技術(shù)方面取得進(jìn)步,并表示中國應(yīng)該能夠利用現(xiàn)有設(shè)備繼續(xù)推進(jìn)到下一代的5nm制程工藝。
報(bào)道稱,華為新推出全新基于國產(chǎn)先進(jìn)制程工藝的麒麟處理器震驚了美國,證明了中國廠商可以使用現(xiàn)有的舊機(jī)器制造更復(fù)雜的芯片。
林本堅(jiān)表示,中國在芯片技術(shù)方面已經(jīng)獲得突破,打破了美國旨在遏制其技術(shù)進(jìn)步的限制 。“美國不可能完全阻止中國改進(jìn)其芯片技術(shù)。”相信中國目前已經(jīng)擁有設(shè)備能夠繼續(xù)將制程工藝推進(jìn)到5nm制程。
對于美國近期又升級(jí)了半導(dǎo)體出口限制,林本堅(jiān)表示,盡管美國通過制裁施加技術(shù)限制,中國廠商通過開發(fā)第二代7納米級(jí)制造工藝,展現(xiàn)了顯著的韌性和獨(dú)創(chuàng)性。它還實(shí)現(xiàn)了足夠高的產(chǎn)量,足以讓華為制定供應(yīng) 7000 萬部智能手機(jī)的計(jì)劃。
據(jù)稱,中國新的先進(jìn)制程工藝使用了荷蘭ASML 的 Twinscan NXT:2000i 系列光刻工具,這是一種深紫外 (DUV) 光刻設(shè)備,可以生產(chǎn)采用 7nm 和 5 nm 級(jí)工藝技術(shù)的芯片。
Twinscan NXT:2000i 的分辨率(≤38nm)足以滿足 7nm 級(jí)單圖案光刻批量生產(chǎn)的需要。但今年早些時(shí)候,荷蘭政府限制了該工具繼續(xù)向中國的出口 。
另外,當(dāng)涉及到5nm級(jí)工藝技術(shù)時(shí),需要更精細(xì)的分辨率。
為了生產(chǎn)它,芯片制造商可以使用Twinscan NXT:2000i 來做雙重、三重甚至四重圖案化,這是一種更為復(fù)雜的光刻技術(shù),涉及將一個(gè)圖案分成幾個(gè)圖案,然后按順序印刷這些圖案,以在半導(dǎo)體制造中實(shí)現(xiàn)更高的精度和細(xì)節(jié)。多重圖案化的使用是一個(gè)棘手的過程,會(huì)影響產(chǎn)量以及每個(gè)晶圓上可使用的芯片數(shù)量,因此通常由于經(jīng)濟(jì)原因其使用受到限制。
但受限于其已有的工具,中國芯片制造廠商別無選擇,只能使用多重圖案化來獲得更精細(xì)的分辨率。顯然,它已經(jīng)達(dá)到了華為可以接受的良率。由此可見,美國政府對限制策略并沒有多少效果。
林本堅(jiān)指出:“美國真正應(yīng)該做的是專注于保持其芯片設(shè)計(jì)領(lǐng)先地位,而不是試圖限制中國的進(jìn)步,這是徒勞的,并且會(huì)損害全球經(jīng)濟(jì)。因?yàn)橹袊诓扇∨e國戰(zhàn)略來發(fā)展其芯片產(chǎn)業(yè)。”
本文鏈接:http://www.www897cc.com/showinfo-17-15825-0.html臺(tái)積電前研發(fā)副總林本堅(jiān):美國試圖限制中國進(jìn)步是徒勞的!
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