【ITBEAR】8月12日消息,近日,有韓媒ETNews報道稱,三星電子已在內部確認了將在平澤P4工廠投資建設1c nm DRAM內存產線的計劃,并預計該產線將于明年6月正式投入運營。
平澤P4工廠是一座集多種半導體生產于一體的綜合性中心,共分為四期建設。根據早前的規劃,一期主要用于NAND閃存的生產,二期原計劃為邏輯代工,而三期和四期則規劃為DRAM內存的生產。值得注意的是,三星已經在P4一期引入了DRAM生產設備,但二期的建設目前處于擱置狀態。
據ITBEAR了解,1c nm DRAM代表著第六代20~10 nm級的內存工藝,目前各大廠商的相關產品都還未正式發布。韓媒在報道中指出,三星電子計劃在今年年底前啟動1c nm內存的生產。
平澤廠區作為三星的重要生產基地,此次1c nm DRAM產線的建設也被視為是三星電子為應對未來市場需求的重要布局。特別是考慮到HBM內存對DRAM晶圓的消耗量遠高于傳統內存,平澤P4工廠1c nm DRAM產線的建設無疑是在為可能的HBM4生產需求做好充分準備。
此前,有報道指出三星電子計劃在明年下半年推出的HBM4內存上使用1c nm DRAM裸片,旨在通過更先進的DRAM制程提升HBM4產品的能效競爭力,以此追趕在HBM領域處于領先地位的SK海力士。
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