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不再需要EUV光刻機 國內首條光子芯片產線明年落地

來源: 責編: 時間:2023-08-07 16:31:23 222觀看
導讀 如今,光刻機一直限制著國產芯片的發展,為了突破限制,國家正在大力推進光子芯片,其原理跟硅芯片不同,運算速度可提升1000倍以上,而且不依賴先進的光刻機,比如EUV光刻機,因此是各國爭

如今,光刻機一直限制著國產芯片的發展,為了突破限制,國家正在大力推進光子芯片,其原理跟硅芯片不同,運算速度可提升1000倍以上,而且不依賴先進的光刻機,比如EUV光刻機,因此是各國爭相發展的新一代信息科技。Mjw28資訊網——每日最新資訊28at.com

 近日有消息稱,國內首條“多材料、跨尺寸”的光子芯片生產線已在籌備,預計將于2023年在京建成,可滿足通信、數據中心、激光雷達、微波光子、醫療檢測等領域需求,有望填補我國在光子芯片晶圓代工領域的空白。Mjw28資訊網——每日最新資訊28at.com

據悉,光子芯片是光電子器件的核心組成部分,與集成電路芯片相比存在多處不同。例如:從性能而言,光子芯片的計算速度較電子芯片快約1000倍,且功耗更低。Mjw28資訊網——每日最新資訊28at.com

從材料而言,InP、GaAS等二代化合物半導體是光子芯片更為常用的材料,而集成電路一般采用硅片。從制備而言,光子芯片的制備流程與集成電路芯片存在一定相似性,但側重點在于外延設計與制備環節,而非光刻環節。Mjw28資訊網——每日最新資訊28at.com

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