雖然整體半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面臨趨緩,但用于曝光制程的光罩護(hù)膜(pellicle)仍維持供不應(yīng)求。隨著美國(guó)對(duì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制裁的加深,國(guó)內(nèi)IC設(shè)計(jì)及晶圓代工業(yè)者數(shù)量增加,以及全球AI半導(dǎo)體新創(chuàng)企業(yè)的涌現(xiàn),光罩護(hù)膜的需求大幅增長(zhǎng)。
主要光罩護(hù)膜供應(yīng)商如Topan、Portronics、DNP等工廠稼動(dòng)率皆維持在100%水準(zhǔn),部分國(guó)內(nèi)IC設(shè)計(jì)及晶圓代工業(yè)者更支付額外費(fèi)用,以期縮短交貨時(shí)間。然而,由于需求高漲,主要供應(yīng)商的產(chǎn)能已接近極限,預(yù)計(jì)即使在需求增加的情況下,短期內(nèi)仍難以滿足市場(chǎng)需求。
光罩護(hù)膜在半導(dǎo)體曝光制程中起到防止光罩上的灰塵或其他污染物對(duì)光罩造成損傷的作用。隨著制程技術(shù)的進(jìn)步和美國(guó)制裁的影響,國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正在大規(guī)模擴(kuò)張,對(duì)光罩護(hù)膜的需求也隨之大幅增加。
另外,中芯國(guó)際透過深紫外光(DUV)設(shè)備量產(chǎn)7納米制程,相較極紫外光(EUV)制程,在部分圖案化(patterning)過程需使用3~5倍的光罩護(hù)膜量。同時(shí),隨著ChatGPT等AI服務(wù)正式商用化,各式業(yè)者開始投入AI半導(dǎo)體研發(fā),從邊緣用到服務(wù)器用AI半導(dǎo)體,相關(guān)新創(chuàng)企業(yè)也大量登場(chǎng),進(jìn)一步推高了光罩護(hù)膜的需求。
盡管主要供應(yīng)商如Topan、Portronics、DNP等正在積極擴(kuò)大產(chǎn)能,但業(yè)界人士表示,預(yù)計(jì)即使在需求增加的情況下,短期內(nèi)仍難以滿足市場(chǎng)需求。隨著需求增加,石英價(jià)格也在上漲,預(yù)計(jì)2024年光罩價(jià)格上調(diào)可能性高。
因此,盡管整體半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面臨趨緩,但光罩護(hù)膜市場(chǎng)仍然供不應(yīng)求。主要供應(yīng)商需要繼續(xù)擴(kuò)大產(chǎn)能并改進(jìn)生產(chǎn)工藝以滿足不斷增長(zhǎng)的需求。同時(shí),對(duì)于國(guó)內(nèi)IC設(shè)計(jì)及晶圓代工業(yè)者而言,需要密切關(guān)注市場(chǎng)動(dòng)態(tài)并提前規(guī)劃以應(yīng)對(duì)潛在的市場(chǎng)變化。
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