盧偉冰長(zhǎng)文解析K60至尊版 對(duì)Redmi有著里程碑式的意義
在今天的Redmi后性能時(shí)代戰(zhàn)略發(fā)布會(huì)結(jié)束之后，Redmi總經(jīng)理盧偉冰又帶來了一篇長(zhǎng)文，詳解了為什么 Redmi 要開啟后性能時(shí)代？為什么選擇和 MediaTek、Pixelworks 深度合作？以及后性
雖然整體半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面臨趨緩，但用于曝光制程的光罩護(hù)膜（pellicle）仍維持供不應(yīng)求。隨著美國(guó)對(duì)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)制裁的加深，國(guó)內(nèi)IC設(shè)計(jì)及晶圓代工業(yè)者數(shù)量增加，以及全球AI半導(dǎo)體新創(chuàng)企業(yè)的涌現(xiàn)，光罩護(hù)膜的需求大幅增長(zhǎng)。
主要光罩護(hù)膜供應(yīng)商如Topan、Portronics、DNP等工廠稼動(dòng)率皆維持在100%水準(zhǔn)，部分國(guó)內(nèi)IC設(shè)計(jì)及晶圓代工業(yè)者更支付額外費(fèi)用，以期縮短交貨時(shí)間。然而，由于需求高漲，主要供應(yīng)商的產(chǎn)能已接近極限，預(yù)計(jì)即使在需求增加的情況下，短期內(nèi)仍難以滿足市場(chǎng)需求。
光罩護(hù)膜在半導(dǎo)體曝光制程中起到防止光罩上的灰塵或其他污染物對(duì)光罩造成損傷的作用。隨著制程技術(shù)的進(jìn)步和美國(guó)制裁的影響，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正在大規(guī)模擴(kuò)張，對(duì)光罩護(hù)膜的需求也隨之大幅增加。
另外，中芯國(guó)際透過深紫外光（DUV）設(shè)備量產(chǎn)7納米制程，相較極紫外光（EUV）制程，在部分圖案化（patterning）過程需使用3~5倍的光罩護(hù)膜量。同時(shí)，隨著ChatGPT等AI服務(wù)正式商用化，各式業(yè)者開始投入AI半導(dǎo)體研發(fā)，從邊緣用到服務(wù)器用AI半導(dǎo)體，相關(guān)新創(chuàng)企業(yè)也大量登場(chǎng)，進(jìn)一步推高了光罩護(hù)膜的需求。
盡管主要供應(yīng)商如Topan、Portronics、DNP等正在積極擴(kuò)大產(chǎn)能，但業(yè)界人士表示，預(yù)計(jì)即使在需求增加的情況下，短期內(nèi)仍難以滿足市場(chǎng)需求。隨著需求增加，石英價(jià)格也在上漲，預(yù)計(jì)2024年光罩價(jià)格上調(diào)可能性高。
因此，盡管整體半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面臨趨緩，但光罩護(hù)膜市場(chǎng)仍然供不應(yīng)求。主要供應(yīng)商需要繼續(xù)擴(kuò)大產(chǎn)能并改進(jìn)生產(chǎn)工藝以滿足不斷增長(zhǎng)的需求。同時(shí)，對(duì)于國(guó)內(nèi)IC設(shè)計(jì)及晶圓代工業(yè)者而言，需要密切關(guān)注市場(chǎng)動(dòng)態(tài)并提前規(guī)劃以應(yīng)對(duì)潛在的市場(chǎng)變化。
本文鏈接：http://www.www897cc.com/showinfo-27-35809-0.html半導(dǎo)體制劑產(chǎn)業(yè)：光罩護(hù)膜短缺，需求持續(xù)增長(zhǎng)
聲明：本網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容旨在傳播知識(shí)，若有侵權(quán)等問題請(qǐng)及時(shí)與本網(wǎng)聯(lián)系，我們將在第一時(shí)間刪除處理。郵件：2376512515@qq.com
Copyright ? 2016-2023 天津谷騏科技有限公司 版權(quán)所有 sitemap.xml
違法及侵權(quán)請(qǐng)聯(lián)系：2376512515@qq.com 津ICP備18001702號(hào)
津公網(wǎng)安備 12010102000574號(hào)