盛美上海作為具備世界先進技術的半導體設備制造商,在第102屆中國電子展上展示了其新產品。盛美上海已經擁有豐富的產品陣容,包括單晶圓及槽式濕法清洗設備、電鍍設備、無應力拋光設備、立式爐管設備等。
最近,盛美上海成功推出涂膠顯影Track設備,標志著該公司已正式進軍半導體前道光刻領域。該設備采用垂直交叉架構,形成差異化競爭優勢,可支持拓展至12個涂膠腔體及12個顯影腔體,每小時晶圓產能可達300片。盛美上海已經向中國國內的邏輯客戶交付首臺ArF工藝的前道涂膠顯影Track設備,并開始著手研發KrF型號的設備。
盛美上海新推出涂膠顯影設備,將在多客戶之間進行平行驗證,有望提高設備的放量速度。自2024年開始,涂膠顯影設備將成為盛美上海未來業績成長的新增長曲線之一。
此外,盛美上海還推出了擁有自主知識產權的Ultra Pmax等離子體增強化學氣相沉積(PECVD)設備,該設備具有更好的薄膜均勻性、更優的薄膜應力和更少的顆粒特性等特點,可滿足不同工藝和產能需求。盛美上海一直堅持“技術差異化”發展戰略,不斷推出差異化的新產品、新技術,提升公司的核心競爭力,擴大公司的收入和利潤規模。
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