近日，英國南安普敦大學(xué)宣布成功開設(shè)了一個(gè)尖端電子束光刻（EBL）中心。這是日本以外全球首個(gè)分辨率達(dá)5納米以下的中心，也是歐洲首個(gè)此類電子束光刻中心。該中心能夠制造下一代半導(dǎo)體芯片。
據(jù)南安普敦大學(xué)介紹，該電子束光刻中心采用日本JEOL公司的加速電壓直寫電子束光刻系統(tǒng)。這是全球第二臺200kV系統(tǒng)（JEOL JBX-8100 G3），第一臺在日本。該系統(tǒng)可在200毫米晶圓上實(shí)現(xiàn)低于5納米級精細(xì)結(jié)構(gòu)的分辨率處理，適用于厚至10微米的光刻膠，側(cè)壁幾乎垂直，有助于開發(fā)電子和光子學(xué)領(lǐng)域研究芯片中的新結(jié)構(gòu)。JEOL的另一款100kV EBL設(shè)備（JBX-A9）將用于支持更大批量的300毫米晶圓。
目前，JEOL的加速電壓直寫電子束光刻系統(tǒng)（JEOL JBX-8100 G3）已安裝在南安普頓大學(xué)蒙巴頓綜合大樓內(nèi)一個(gè)專門建造的820平方米潔凈室內(nèi)。
英國科學(xué)部長帕特里克·瓦蘭斯勛爵表示：“英國是世界上一些最令人興奮的半導(dǎo)體研究的所在地，南安普敦的新電子束設(shè)施極大地提升了我們的國家能力。通過投資基礎(chǔ)設(shè)施和人才，我們?yōu)檠芯咳藛T和創(chuàng)新者提供了在英國開發(fā)下一代芯片所需的支持。”
南安普頓大學(xué)馬丁·查爾頓教授表示：“我們非常榮幸成為日本以外首個(gè)擁有這套新一代200千伏電子束光刻系統(tǒng)的機(jī)構(gòu)。南安普頓大學(xué)在電子束光刻領(lǐng)域擁有超過30年的經(jīng)驗(yàn)。這將有助于推動(dòng)量子計(jì)算、硅光子學(xué)和下一代電子系統(tǒng)領(lǐng)域的發(fā)展。這套設(shè)備與我們現(xiàn)有的微加工設(shè)備套件相得益彰，使我們能夠研發(fā)和生產(chǎn)各種用于電子、光子學(xué)和生物納米技術(shù)的集成納米級器件。”
Graham Reed 教授補(bǔ)充道：“新電子束設(shè)施的引入將加強(qiáng)我們在英國學(xué)術(shù)界擁有最先進(jìn)的潔凈室的地位。它促進(jìn)了大量創(chuàng)新和工業(yè)相關(guān)的研究，以及急需的半導(dǎo)體技能培訓(xùn)。”

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