快科技9月25日消息，近日，臺(tái)積電公布了其下一代A14（1.4nm）工藝的新進(jìn)展，稱(chēng)其進(jìn)展順利，良率表現(xiàn)優(yōu)于預(yù)期。i4x28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

除了良率，A14工藝在性能和能效方面相較于N2工藝有著顯著的提升，具體來(lái)說(shuō)，A14性能比N2快15%，功耗降低了30%。i4x28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

i4x28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

臺(tái)積電計(jì)劃在A14工藝中采用第二代GAAFET納米片晶體管和全新的NanoFlex Pro標(biāo)準(zhǔn)單元架構(gòu)，這些技術(shù)的應(yīng)用將使芯片密度比N2工藝提升高達(dá)20%。i4x28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

i4x28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

這意味著在相同的芯片面積上，可以容納更多的晶體管，從而實(shí)現(xiàn)更高的計(jì)算能力和更低的功耗。i4x28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

目前，臺(tái)積電預(yù)計(jì)A14工藝將在2028年進(jìn)入量產(chǎn)階段，蘋(píng)果、英偉達(dá)和AMD等大客戶也將采用這一新工藝，A14有望在未來(lái)幾年內(nèi)成為推動(dòng)消費(fèi)電子產(chǎn)品性能提升的關(guān)鍵力量。i4x28資訊網(wǎng)——每日最新資訊28at.com

本文鏈接：http://www.www897cc.com/showinfo-17-183918-0.html臺(tái)積電：A14進(jìn)展順利良率表現(xiàn)優(yōu)于預(yù)期！性能較N2提升15%

聲明：本網(wǎng)頁(yè)內(nèi)容旨在傳播知識(shí)，若有侵權(quán)等問(wèn)題請(qǐng)及時(shí)與本網(wǎng)聯(lián)系，我們將在第一時(shí)間刪除處理。郵件：2376512515@qq.com

上一篇： 芯片承壓！曝英偉達(dá)入局Robotaxi 業(yè)內(nèi)人士：或打造“開(kāi)放版FSD”吸引車(chē)企

下一篇： 提升幸福感！韓國(guó)開(kāi)始討論讓所有企業(yè)執(zhí)行每周4.5天工作制 工資不變